[发明专利]一种掩模板清洗系统及清洗方法

摘要

本申请公开了一种掩模板清洗系统及清洗方法，该清洗系统包括：有机清洗组件，用于清洗掩模板上的有机物；酸清洗组件，用于清洗掩模板上能够被酸清洗的无机物；碱清洗组件，用于清洗掩模板上能够被碱清洗的无机物；脱水组件，用于对经有机清洗组件、酸清洗组件或碱清洗组件清洗过的掩模板进行脱水；干燥室，用于对经脱水组件脱水处理过的掩模板进行干燥；其中，有机清洗组件、酸清洗组件、碱清洗组件、脱水组件和干燥室的位置不在同一条直线上，且有机清洗组件、酸清洗组件、碱清洗组件、脱水组件和干燥室的设置满足预设条件。通过上述方式，本申请能够清洗三种类型的掩模板且使尺寸更为紧凑。

主权项

1.一种掩模板清洗系统，其特征在于，所述清洗系统包括：有机清洗组件，用于清洗所述掩模板上的有机物；酸清洗组件，用于清洗所述掩模板上能够被酸清洗的无机物；碱清洗组件，用于清洗所述掩模板上能够被碱清洗的无机物；脱水组件，用于对经所述有机清洗组件、所述酸清洗组件或所述碱清洗组件清洗过的所述掩模板进行脱水；干燥室，用于对经所述脱水组件脱水处理过的所述掩模板进行干燥；其中，所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室的位置不在同一条直线上，且所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室的设置满足安全标准要求。