[发明专利]一种掩模板清洗系统及清洗方法

权利要求书

1.一种掩模板清洗系统，其特征在于，所述清洗系统包括：

有机清洗组件，用于清洗所述掩模板上的有机物；

酸清洗组件，用于清洗所述掩模板上能够被酸清洗的无机物；

碱清洗组件，用于清洗所述掩模板上能够被碱清洗的无机物；

脱水组件，用于对经所述有机清洗组件、所述酸清洗组件或所述碱清洗组件清洗过的所述掩模板进行脱水；

干燥室，用于对经所述脱水组件脱水处理过的所述掩模板进行干燥；

其中，所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室的位置不在同一条直线上，且所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室的设置满足安全标准要求。

2.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，所述清洗系统还包括：公共物流区，所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件和所述脱水组件分布在所述公共物流区的两侧，

优选地，分散在所述公共物流区的两侧的各组件两两相对设置，

优选地，所述干燥室邻近所述公共物流区的第一端部设置。

3.根据权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，所述清洗系统还包括：电解组件，用于对经所述有机清洗组件清洗过的所述掩模板进行电解以去除所述掩模板上的颗粒物。

4.根据权利要求3所述的清洗系统，其特征在于，

所述酸清洗组件与所述碱清洗组件间隔设置，和/或，所述电解组件与所述脱水组件间隔设置，和/或，所述电解组件与所述酸清洗组件间隔设置。

5.根据权利要求3所述的清洗系统，其特征在于，

所述电解组件与所述酸清洗组件位于所述公共物流区一侧，所述有机清洗组件和所述碱清洗组件位于所述公共物流区的另一侧，且所述碱清洗组件与所述酸清洗组件相对设置，所述有机清洗组件和所述电解组件相对设置，所述有机清洗组件相对所述碱清洗组件远离所述干燥室。

6.根据权利要求3所述的清洗系统，其特征在于，所述清洗系统还包括：

抓取组件，包括第一机械臂，所述第一机械臂位于所述公共物流区，用于抓取并移动所述掩模板的位置；

清洗槽，位于所述电解组件与所述酸清洗组件之间，用于清洗所述抓取组件与所述掩模板接触的端部；

上料室，位于所述公共物流区的第二端部且所述有机清洗组件靠近所述上料室，用于承载待清洗的所述掩模板；

下料室，位于所述干燥室远离所述公共物流区的所述第一端部一侧，用于承载所述干燥室干燥完成后的所述掩模板。

7.根据权利要求6所述的清洗系统，其特征在于，所述抓取组件还包括：第二机械臂和第三机械臂，所述第一机械臂用于在所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室之间抓取并移动所述掩模板的位置；所述第二机械臂用于将所述掩模板从所述上料室取出；所述第三机械臂用于将所述掩模板放置到所述下料室中。

8.根据权利要求2所述的清洗系统，其特征在于，

所述脱水组件包括第一脱水室和第二脱水室，所述第一脱水室和所述第二脱水室分别位于所述公共物流区的两侧，且靠近所述干燥室；

所述有机清洗组件包括有机清洗槽以及至少一个第一水洗槽，所述有机清洗槽与所述第一水洗槽相邻设置；

所述电解组件，包括电解槽以及至少一个第二水洗槽，所述电解槽与所述第二水洗槽相邻设置

所述酸清洗组件包括酸清洗槽以及至少一个第三水洗槽，所述酸清洗槽与所述第三水洗槽相邻设置；

所述碱清洗组件包括碱清洗槽以及至少一个第四水洗槽，所述碱清洗槽与所述第四水洗槽相邻设置。