[发明专利]一种掩模板清洗系统及清洗方法

说明书

本申请公开了一种掩模板清洗系统及清洗方法，该清洗系统包括：有机清洗组件，用于清洗掩模板上的有机物；酸清洗组件，用于清洗掩模板上能够被酸清洗的无机物；碱清洗组件，用于清洗掩模板上能够被碱清洗的无机物；脱水组件，用于对经有机清洗组件、酸清洗组件或碱清洗组件清洗过的掩模板进行脱水；干燥室，用于对经脱水组件脱水处理过的掩模板进行干燥；其中，有机清洗组件、酸清洗组件、碱清洗组件、脱水组件和干燥室的位置不在同一条直线上，且有机清洗组件、酸清洗组件、碱清洗组件、脱水组件和干燥室的设置满足预设条件。通过上述方式，本申请能够清洗三种类型的掩模板且使尺寸更为紧凑。

技术领域

本申请涉及掩模板技术领域，特别是涉及一种掩模板清洗系统及清洗方法。

背景技术

在制作显示面板过程中，一般需要在特定位置上利用掩模板蒸镀特定材料。掩模板在使用一段时间后，其表面会残留有被蒸镀的特定材料，此时需要对掩模板进行清洗，以使得掩模板可以重复使用。

现有的掩模板清洗系统包括级联的以下腔室：(1)有机清洗槽，可以采用N-甲基吡咯烷酮NMP对掩模板上的有机物进行化学清洗；(2)水洗槽，可以采用去离子水对掩模板上残留的NMP溶液进行清洗；(3)脱水室，可以采用异丙醇IPA对掩模板进行脱水处理；(4)干燥室，可以采用高纯气体吹干等方式对脱水后的掩模板进行干燥。

本申请的发明人在长期研究过程中发现，上述清洗系统中级联的腔室会使产线较长；且上述清洗系统仅能清洗表面附着有有机物的掩模板。

发明内容

本申请主要解决的技术问题是提供一种掩模板清洗系统和清洗方法，能够清洗三种类型的掩模板且使尺寸更为紧凑。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种掩模板清洗系统，所述清洗系统包括：有机清洗组件，用于清洗所述掩模板上的有机物；酸清洗组件，用于清洗所述掩模板上能够被酸清洗的无机物；碱清洗组件，用于清洗所述掩模板上能够被碱清洗的无机物；脱水组件，用于对经所述有机清洗组件、所述酸清洗组件或所述碱清洗组件清洗过的所述掩模板进行脱水；干燥室，用于对经所述脱水组件脱水处理过的所述掩模板进行干燥；其中，所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室的位置不在同一条直线上，且所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件、所述脱水组件和所述干燥室的设置满足安全标准要求。

其中，所述清洗系统还包括：公共物流区，所述有机清洗组件、所述酸清洗组件、所述碱清洗组件和所述脱水组件分布在所述公共物流区的两侧，

优选地，分散在所述公共物流区的两侧的各组件两两相对设置，

优选地，所述干燥室邻近所述公共物流区的第一端部设置。

其中，所述清洗系统还包括：电解组件，用于对经所述有机清洗组件清洗过的所述掩模板进行电解以去除所述掩模板上的颗粒物。

其中，所述酸清洗组件与所述碱清洗组件间隔设置，和/或，所述电解组件与所述脱水组件间隔设置，和/或，所述电解组件与所述酸清洗组件间隔设置。

其中，所述电解组件与所述酸清洗组件位于所述公共物流区一侧，所述有机清洗组件和所述碱清洗组件位于所述公共物流区的另一侧，且所述碱清洗组件与所述酸清洗组件相对设置，所述有机清洗组件和所述电解组件相对设置；所述有机清洗组件相对所述碱清洗组件远离所述干燥室。

其中，所述清洗系统还包括：抓取组件，包括第一机械臂，所述第一机械臂位于所述公共物流区，用于抓取并移动所述掩模板的位置；清洗槽，位于所述电解组件与所述酸清洗组件之间，用于清洗所述抓取组件与所述掩模板接触的端部；上料室，位于所述公共物流区的第二端部且所述有机清洗组件靠近所述上料室，用于承载待清洗的所述掩模板；下料室，位于所述干燥室远离所述公共物流区的所述第一端部一侧，用于承载所述干燥室干燥完成后的所述掩模板。