[发明专利]蒸镀掩模装置和蒸镀掩模装置的制造方法在审

专利信息
申请号: 201911199123.1 申请日: 2017-11-29
公开(公告)号: CN110760800A 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 中村友祐;冈本英介;牛草昌人 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: C23C14/24 分类号: C23C14/24;C23C14/04
代理公司: 11127 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李辉;邓毅
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 蒸镀掩模 接合部 有效区域 接合 贯通孔 位置处 皱褶 变形 配置 制造
【说明书】:

本发明提供蒸镀掩模装置和蒸镀掩模装置的制造方法,其能够抑制在蒸镀掩模上产生皱褶或变形。蒸镀掩模装置(10)具备:蒸镀掩模(20),其具有配置有多个第1贯通孔(25)的有效区域(22);和安装于蒸镀掩模(20)的框架(15),该蒸镀掩模装置具有将蒸镀掩模(20)和框架(15)互相接合的多个接合部(60),多个接合部(60)沿着蒸镀掩模(20)的外缘(26)排列,在蒸镀掩模(20)的外缘(26)上的与相邻的两个接合部(60)之间对应的位置处形成有切口(42)。

本申请是申请日为2017年11月29日、发明名称为“蒸镀掩模装置和蒸镀掩模装置的制造方法”、申请号为201711228220.X的中国发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及在蒸镀材料向被蒸镀基板的蒸镀中所使用的蒸镀掩模装置、和该蒸镀掩模装置的制造方法。

背景技术

近年,对于在智能手机或平板电脑等可移动设备中使用的显示装置,要求高精细化,例如要求像素密度为400ppi以上。另外,即使对于可移动设备,应对超全高清的需要也在不断高涨,这种情况下,要求显示装置的像素密度为例如800ppi以上。

在显示装置中,由于响应性良好、能耗低且对比度高,有机EL显示装置正在受到关注。作为形成有机EL显示装置的像素的方法,已知这样的方法:使用包含有以所希望的图案排列的贯通孔的蒸镀掩模,以所希望的图案形成像素。具体来说,首先,将有机EL显示装置用的基板(有机EL基板)放入蒸镀装置中,接下来,在蒸镀装置内使蒸镀掩模紧密贴合于有机EL基板,执行使有机材料蒸镀于有机EL基板上的蒸镀工序。

在使用蒸镀掩模来使蒸镀材料在被蒸镀基板上成膜的情况下,蒸镀材料不仅附着于基板上,也附着于蒸镀掩模上。例如,在蒸镀材料中,也存在沿着相对于蒸镀掩模的板面的法线方向大幅地倾斜的方向朝向被蒸镀基板的蒸镀材料,但这样的蒸镀材料在到达被蒸镀基板之前会到达并附着于蒸镀掩模的贯通孔的壁面上。这种情况下,在被蒸镀基板的位于蒸镀掩模的贯通孔的壁面附近的区域中,蒸镀材料难以附着,其结果是,可以想到:附着的蒸镀材料的厚度比其它部分小,或者产生未附着蒸镀材料的部分。即,可以认为,蒸镀掩模的贯通孔的壁面附近的蒸镀变得不稳定。因此,在为了形成有机EL显示装置的像素而使用了蒸镀掩模的情况下,像素的尺寸精度或位置精度低下,其结果是,有机EL显示装置的发光效率变得低下。

作为能够解决这样的问题的蒸镀掩模的一例,可以列举出JP2016-148112A所公开的蒸镀掩模。JP2016-148112A所公开的蒸镀掩模是利用镀覆处理而制造出来的。首先,在绝缘性的基板上形成导电性图案,然后利用电镀法在导电性图案上形成第1金属层。接下来,在第1金属层上形成具有开口的抗蚀剂图案,利用电镀法在该开口内形成第2金属层。然后,将抗蚀剂图案、导电性图案和基板除去,由此得到具有第1金属层和第2金属层的蒸镀掩模。

在JP2016-148112A所公开的技术中,由于利用镀覆处理来制造蒸镀掩模,因此具有可得到厚度薄的蒸镀掩模这样的优点。通过厚度薄的蒸镀掩模,能够降低从相对于蒸镀掩模的板面的法线方向大幅地倾斜的方向朝向被蒸镀基板的蒸镀材料中的、到达并附着于蒸镀掩模的贯通孔的壁面上的蒸镀材料的比例。即,能够使从相对于蒸镀掩模的板面的法线方向大幅地倾斜的方向朝向被蒸镀基板的蒸镀材料恰当地附着于在蒸镀掩模的贯通孔内露出的被蒸镀基板上。因此,在为了形成有机EL显示装置的像素而使用了蒸镀掩模的情况下,具有能够有效防止下述情况的优点:像素的尺寸精度和位置精度低下而导致有机EL显示装置的发光效率低下。

在JP2016-148112A所公开的技术中,在利用镀覆处理制造出蒸镀掩模后,将该蒸镀掩模安装于框架而制造出蒸镀掩模装置。此时,蒸镀掩模装置的框架将蒸镀掩模保持成张紧的状态。即,在固定于框架的状态下,对蒸镀掩模赋予有张力。由此,抑制了在蒸镀掩模上产生挠曲的情况。可是,发现了下述问题:由于对厚度薄的蒸镀掩模赋予张力,而在该蒸镀掩模上产生皱褶或变形。

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