[发明专利]基于图案重复使用的寄生提取的图案匹配

权利要求书

1.一种利用图案匹配的RC提取的方法，包括：

通过布局对原理图(LVS)工具验证原理图与布局的一致性；

通过图案匹配工具分析所述布局以将所述布局划分为多个图案，各个图案都包括包含部分器件、器件或多个器件的一个或多个形状以及它们周围的环境；以及

确定所述多个图案中的第一相应图案不具有存储在被所述图案匹配工具参考的图案数据库中的对应第一参考图案；以及

对所述第一相应图案执行提取以获得相关联的第一提取参数。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括：在所述图案数据库中分别将所述第一相应图案和所述相关联的第一提取参数存储为所述第一参考图案和第一参考提取参数来用于重复使用。

3.根据权利要求1所述的方法，还包括：

确定所述多个图案中的第二相应图案具有存储在所述图案数据库中的对应第二参考图案和相关联的第二参考提取参数；以及

对所述第二相应图案应用所述第二参考提取参数。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，没有预表征所述多个图案中的图案，使得所有图案都被分配提取参数。

5.根据权利要求3所述的方法，其中，确定所述多个图案中的相应图案是否具有存储在所述图案数据库中的对应参考图案还包括旋转和翻转所述相应图案。

6.根据权利要求5所述的方法，其中，所述第一提取参数和所述第二提取参数包括所述相应图案的边界框内的三维电容。

7.根据权利要求5所述的方法，还包括：

识别所述第一相应图案的一个或多个第一缝合节点；

识别所述第二相应图案的一个或多个第二缝合节点，

将第一缝合脚插入到每个对应的所述第一缝合节点；以及

将第二缝合脚插入到每个对应的所述第二缝合节点。

8.根据权利要求7所述的方法，还包括：在缝合脚插入之后，确定所述布局的子集内剩余的提取参数不包括所述第一相应图案或所述第二相应图案。

9.一种限定布局的图案的方法，包括：

限定包括具有器件、器件子集和多边形的多边形集合的一个或多个主要形状的集合；

为所述一个或多个主要形状的集合限定包括限定主要形状与其交互的布局的设计等级的子集的背景；

限定包括关于所述一个或多个主要形状的厚度和所述背景的信息的形状参考文件；以及

限定关于所述一个或多个主要形状的集合在限定所述图案的边界的所述背景内的位置。

10.一种图案和提取存储系统，包括：

寄生提取工具，包括被配置为将设计划分为多个图案的图案匹配工具，其中相应图案都包括具有部分器件、器件或多个器件的一个或多个形状以及它们周围的环境；以及

图案数据库，被所述图案匹配工具参考，并且被配置为存储作为参考图案的相应图案和相关联的提取参数。