[发明专利]一种硅基OLED微显示器改善像素定义层制备方法有效
| 申请号： | 202110362276.4 | 申请日： | 2021-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN113284931B | 公开（公告）日： | 2023-03-10 |
| 发明（设计）人： | 崔胜胜;刘胜芳;赵铮涛 | 申请（专利权）人： | 安徽熙泰智能科技有限公司 |
| 主分类号： | H10K59/122 | 分类号： | H10K59/122;H10K50/86;H10K71/00 |
| 代理公司： | 芜湖安汇知识产权代理有限公司 34107 | 代理人： | 张永生 |
| 地址： | 241000 安徽省芜湖市芜湖长江*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种硅基OLED微显示器改善像素定义层制备方法，包括以下步骤：S1、将硅基CMOS驱动电路基板清洗干净后烘干，在进行阳极膜层沉积，得到基板Ⅰ；S2、对基板Ⅰ进行阳极图形化作业，干刻，去胶后得到基板Ⅱ；S3、在基板Ⅱ上用DUV光刻胶进行阳极图形化，得到基板Ⅲ；S4、在基板Ⅲ上用i线聚酰亚胺光刻胶进行像素定义层图形化作业，得到基板Ⅳ；S5、对基板Ⅳ进行DUV整面曝光、显影，将DUV光刻胶显掉，得到基板Ⅴ。通过在硅基OLED器件的阳极上做DUV光刻胶和聚酰亚胺光刻胶，以两种光刻胶的不同曝光波长来实现像素定义层底部微倒梯形或直角形貌，可以有效的防止像素间的横向电流，改善像素间串扰，提高色域，从而提升产品竞争力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 oled 显示器 改善 像素 定义 制备 方法 | ||
【主权项】：
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