[发明专利]掩膜板及其制造方法和目标图形的制造方法在审
| 申请号： | 201410363655.5 | 申请日： | 2014-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN104199209A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 汪栋 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1339;G03F1/68 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种掩膜板及其制造方法和目标图形的制造方法。该掩膜板包括基底和位于所述基底之上的至少一个遮光区域和至少一个开口区域，所述开口区域用于形成目标图形，至少一个所述开口区域中设置有至少一个遮光结构。本发明提供的技术方案中，掩膜板包括遮光区域和开口区域，至少一个开口区域中设置有二个遮光结构，设置有二个遮光结构的开口区域可形成目标尺寸较小的目标图形，从而实现了在较高的曝光间隔下形成目标宽度较小的目标图形。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜板 及其 制造 方法 目标 图形 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，包括基底和位于所述基底之上的至少一个遮光区域和至少一个开口区域，所述开口区域用于形成目标图形，其特征在于，至少一个所述开口区域中设置有至少一个遮光结构。
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