[发明专利]掩膜板及其制造方法和目标图形的制造方法在审
| 申请号： | 201410363655.5 | 申请日： | 2014-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN104199209A | 公开（公告）日： | 2014-12-10 |
| 发明（设计）人： | 汪栋 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1339;G03F1/68 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;陈源 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩膜板 及其 制造 方法 目标 图形 | ||
1.一种掩膜板，包括基底和位于所述基底之上的至少一个遮光区域和至少一个开口区域，所述开口区域用于形成目标图形，其特征在于，至少一个所述开口区域中设置有至少一个遮光结构。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述遮光结构为条状结构。
3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述开口区域中所述遮光结构的数量为一个时，所述开口区域中所述遮光结构位于所述开口区域的中心线上。
4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述开口区域中所述遮光结构的数量为二个。
5.根据权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述开口区域中二个所述遮光结构对称分布于所述开口区域的中心线的两侧。
6.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述目标图形包括黑矩阵、彩色矩阵图形或者隔垫物。
7.一种掩膜板的制造方法，其特征在于，包括：
在基底之上形成遮光材料层；
对所述遮光材料层进行构图工艺形成至少一个遮光区域、至少一个开口区域和至少一个遮光结构，所述开口区域用于形成目标图形，所述开口区域中设置有至少一个遮光结构。
8.根据权利要求7所述的掩膜板的制造方法，其特征在于，所述开口区域中所述遮光结构的数量为一个或者二个。
9.一种目标图形的制造方法，其特征在于，包括：
在衬底基板的上方形成目标材料层；
在所述目标材料层之上形成光刻胶；
将所述掩膜板设置于所述衬底基板的上方，所述掩膜板采用上述权利要求1至6任一所述的掩膜板；
通过所述掩膜板对所述光刻胶进行曝光处理，形成曝光部分和未曝光部分，所述曝光部分对应于所述开口区域，所述未曝光部分对应于所述遮光区域；
对曝光后的光刻胶进行显影，去除所述未曝光部分并保留所述曝光部分；
对所述衬底基板进行刻蚀，形成所述目标图形；
去除所述曝光部分。
10.根据权利要求9所述的目标图形的制造方法，其特征在于，所述目标图形包括黑矩阵、彩色矩阵图形或者隔垫物。
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