[实用新型]一种铽镓石榴石晶体镀膜夹具

说明书

本实用新型公开了一种用于铽镓石榴石晶体双面镀膜的圆形夹具，包括扁平圆柱体，扁平圆柱体上设置有多个贯穿孔，这些贯穿孔周向均匀分布在所述扁平圆柱体上，以用于容纳待镀膜的铽镓石榴石晶体；扁平圆柱体的外柱面一体成型有环形凸台，以用于搁置到镀膜伞架的圆孔部位，环形凸台在对应于每个所述贯穿孔的位置分别设置有螺纹孔，每个所述螺纹孔处分别连接有用于抵紧贯穿孔内的铽镓石榴石晶体的螺纹紧固件；至少一个紧固件为螺纹杆，螺纹杆远离贯穿孔的一端超出环形凸台的外柱面从而形成捏持部。本实用新型通过一次装夹来实现双面镀膜，不用反复的装/卸夹铽镓石榴石晶体，可以减少铽镓石榴石晶体多次装/卸夹操作带来的崩边、破损等缺陷。

技术领域

本实用新型属于夹具领域，更具体地，涉及一种铽镓石榴石晶体镀膜夹具。

背景技术

铽镓石榴石(Terbium Gallium Garnet，TGG)铽镓石榴石晶体在400～1100nm波段(不包括470～500nm)透明，具有大磁光常数、低透射损耗、高热导率、高抗激光损伤阈值及易生长大尺寸晶体等优点，是目前这一波段最好的磁光材料之一。它是用于制作法拉第旋光器与隔离器的最佳磁光材料，广泛应用于钇铝石榴石(YAG)、掺Ti蓝宝石等多级放大、环形及种子注入激光器中。

当前铽镓石榴石晶体主流生长工艺是采用自动提拉法完成，例如中国电子科技集团26所采用自主研发的JGD-800型上称重自动提拉炉，成功生长出φ53mm×80mm，外观完整，无开裂、无螺旋的铽镓石榴石晶体，通过可见及近红外分光光度计测试，加工铽镓石榴石晶体样品透过率约为80.6％。这种生长出来的铽镓石榴石晶体，经研磨抛光后的铽镓石榴石晶体片因为表面反射效应，其1064nm波段透过率仅在80％左右，无法满足光通信器件的使用要求，因此需对铽镓石榴石晶体进行处理，减少铽镓石榴石晶体表面反射，获得高透铽镓石榴石晶体，以便广泛应用于光隔离器、环形器、光调制器等光通信器件中。

而目前常规的处理方法是进行表面处理形成增透膜，其是先将提拉法生长的铽镓石榴石晶体规定尺寸定向、切割、辊圆、研磨、抛光、清洗干净，然后铽镓石榴石晶体放置在工装上，并将一些工装摊在镀膜伞架上，采用电子束蒸镀和离子辅助沉积工艺，从而在铽镓石榴石晶体表面镀制增透膜层。而一个工装上一般会安装多个铽镓石榴石晶体，在铽镓石榴石晶体的一面镀完后，需在工装上拆下铽镓石榴石晶体然后翻转铽镓石榴石晶体后再固定到工装上，然后再放置到镀膜伞架上镀另外一面，这样的方式就使得过程比较繁琐且比较耗费时间，而且工装也容易从镀膜伞架上滑落，铽镓石榴石晶体的多次装/卸夹操作会带来崩边、破损等缺陷。

实用新型内容

针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本实用新型提供了一种铽镓石榴石晶体镀膜夹具，其通过一次装夹来实现双面镀膜，工艺简单，操作方便，不用反复的装/卸夹铽镓石榴石晶体，可以减少铽镓石榴石晶体多次装/卸夹操作带来的崩边、破损等缺陷。

为实现上述目的，按照本实用新型，提供了一种用于铽镓石榴石晶体双面镀膜的圆形夹具，其特征在于，包括扁平圆柱体，所述扁平圆柱体上设置有多个贯穿孔，每个所述贯穿孔均沿着所述扁平圆柱体的厚度方向设置，并且这些贯穿孔周向均匀分布在所述扁平圆柱体上，以用于容纳待镀膜的铽镓石榴石晶体；

所述扁平圆柱体的外柱面一体成型有环形凸台，以用于搁置到镀膜伞架的圆孔部位；

所述环形凸台在对应于每个所述贯穿孔的位置分别设置有螺纹孔，并且各所述螺纹孔与对应位置处的所述贯穿孔连通，每个所述螺纹孔处分别连接有用于抵紧贯穿孔内的铽镓石榴石晶体的螺纹紧固件；

至少一个所述紧固件为螺纹杆，并且该螺纹杆远离贯穿孔的一端超出所述环形凸台的外柱面从而形成捏持部。

优选地，所述贯穿孔为圆孔或长方形孔。

优选地，每个所述贯穿孔均为圆孔，并且直径为2mm～10mm。

优选地，每个所述贯穿孔均为长方形孔，并且长度为2mm～10mm，宽度为2mm～10mm，深度为3mm～15mm。