[实用新型]一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石有效
| 申请号： | 202020512263.1 | 申请日： | 2020-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN211923327U | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 卢伟佳;张宏辉;张俊 | 申请（专利权）人： | 亚细亚建筑材料股份有限公司 |
| 主分类号： | E04F13/14 | 分类号： | E04F13/14;B32B9/00;B32B9/04;B32B17/06;B32B3/06;B32B3/30;B32B33/00 |
| 代理公司： | 北京睿智保诚专利代理事务所(普通合伙) 11732 | 代理人： | 周新楣 |
| 地址： | 200333 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 双层 柔光 大理石 | ||
【权利要求书】：
1.一种幻彩双层底坯柔光抛晶大理石,其特征在于，所述大理石自下而上依次设置坯体、面釉层(3)、图案层(4)和负离子钻石釉层(5)；所述坯体包括下层的幻彩坯体层(1)和上层的超白坯体层(2)。
2.根据权利要求1所述的柔光抛晶大理石，其特征在于，所述负离子钻石釉层(5)的厚度为0.2～0.6mm。
3.根据权利要求1所述的柔光抛晶大理石，其特征在于，所述面釉层(3)厚度为0.08-0.2mm。
4.根据权利要求1所述的柔光抛晶大理石，其特征在于，所述负离子钻石釉层(5)外表面柔抛光的厚度为0.05～0.1mm。
5.根据权利要求1所述的柔光抛晶大理石，其特征在于，所述底坯投影外一侧设置有凸起，所述底坯投影外所述凸起的对侧设置有凹槽；所述凸起用于与另一件对应拼装大理石的凹槽榫卯配合。
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