[发明专利]一种基于EMFNL滤波器的次级通道建模方法有效

专利信息
申请号: 202010111704.1 申请日: 2020-02-24
公开(公告)号: CN111193497B 公开(公告)日: 2023-03-28
发明(设计)人: 郭新年;叶慧雯;杨伟强;王晓晖;柯永斌;何晓凤;赵正敏;杨玉东 申请(专利权)人: 淮阴工学院
主分类号: H03H21/00 分类号: H03H21/00;H03H17/02
代理公司: 淮安市科文知识产权事务所 32223 代理人: 谢观素
地址: 223005 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 emfnl 滤波器 次级 通道 建模 方法
【权利要求书】:

1.一种基于带线性部分偶镜像傅里叶非线性(EMFNL,Even Mirror FourierNonlinear with Linear section)滤波器的次级通道建模方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1:产生高斯白噪声,并滤除高频部分;

S2:对S1中激励白噪声,构建带线性部分偶镜像傅里叶非线性EMFNL滤波器抽头并简化;

S3:对S2中滤波器抽头,采用自适应算法辨识系数;

S4:稀疏化S3中的次级通道传递函数系数;

S5:对稀疏化的次级通道计算其次级通道估计。

2.根据权利要求1所述的基于EMFNL滤波器的次级通道建模方法,其特征在于,所述S2中简化滤波器抽头实现形式包括:

1)去除滤波器中部分抽头:如果次级通道是极弱非线性情形,则仅保留次级通道系数s(n)中的线性部分;如果系统表现出线性和三角非线性情形,则仅保留次级通道系数s(n)中线性、正弦和余弦抽头;或者

2)交叉抽头部分对角结构实现,仅保留部分主对角通道。

3.根据权利要求2所述的基于EMFNL滤波器的次级通道建模方法,其特征在于,S4所述稀疏化指通过保留贡献大的系数,完成稀疏化,其稀疏化方法包括:

1)权系数贡献大小排序,仅更新权系数中贡献从大到小排序的前部分项,在更新环节完成系数稀疏化,稀疏化系数更新算法为:

sp(n+1)=sp(n)+μe(n)fc(n)

其中,sp为s(n)中贡献排序前M/a个系数,a取值为2或3;或者,

2)使用稀疏阈值,仅保留大于阈值的系数值,完成系数稀疏化。

4.根据权利要求3所述的基于EMFNL滤波器的次级通道建模方法,其特征在于,所述稀疏化方法2)中线性部分和非线性部分稀疏阈值取值为σ1/4和σ2,其中,σ1和σ2分别为s(n)中线性部分和非线性部分系数的方差。

5.根据权利要求2所述的基于EMFNL滤波器的次级通道建模方法,其特征在于,所述S4中次级通道传递函数表示为如下形式:

其中,R1≤M、R2≤M、R3≤M和R3≤M(M-1)/2分别为线性项、正弦、余弦项和交叉项的数量,li,ki,pi和qi为时延参数,此时s(n)=[aiT,biT,ciT,diT],其中ai={ai,i=1,2,…,R1},bi={bi,i=1,2,…,R2},ci={ci,i=1,2,…,R3},di={di,i=1,2,…,R4}。

6.根据权利要求5所述的基于EMFNL滤波器的次级通道建模方法,其特征在于,所述S5稀疏后的次级通道估计为:

其中,Ai~Ei为系数估计,li,ki,pi,qi和ri为时延参数,满足如下:

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