[发明专利]一种波像差测量装置及光刻机

说明书

本发明公开了一种波像差测量装置及光刻机。所述波像差测量装置包括：照明系统，以及物面光栅板、投影物镜、像面光栅板和光电探测器；物面光栅板和像面光栅板均为透明光栅板；物面光栅板包括物面光栅，物面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，凸起部的高度或凹陷部的深度为d；像面光栅板包括像面光栅，像面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，凸起部的高度或凹陷部的深度为d；其中，d＝λ(k+1/2)/(n_折‑1)，λ为入射光的波长，k为正整数，n_折为对应光栅板的折射率。本发明实施例提供的技术方案，提高了用于波像差测量的光的光强，以及波像差测量的精度，且物面光栅和像面光栅的制备工艺简单，制备成本低。

技术领域

本发明实施例涉及波像差测量技术领域，尤其涉及一种波像差测量装置及光刻机。

背景技术

投影物镜波像差是影响光刻机成像质量的关键因素，对于高分辨率的光刻机投影物镜波像差可以采用干涉的方法进行测量。

现有技术中波相差测量装置包括照明系统以及沿照明系统发出的光的光路依次设置的物面光栅、投影物镜、像面光栅和探测器，其中，物面光栅和像面光栅均为振幅型光栅，这种光栅的衍射光具有很强的零频光，导致干涉光除包括正负1级光外，还包括零频光，使得正负1级光的干涉对比度下降，进而波像差测量精度下降。

发明内容

本发明提供一种波像差测量装置及光刻机，以去除光栅衍射中的零频光，提高用于波像差测量的光的强度，提高测量精度。

第一方面，本发明实施例提供了一种波像差测量装置，包括：

照明系统，以及沿所述照明系统发出的光的光路依次排列的物面光栅板、投影物镜、像面光栅板以及光电探测器；

所述物面光栅板和所述像面光栅板均为透明光栅板；

所述物面光栅板包括物面光栅，所述物面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度为d；

所述像面光栅板包括像面光栅，所述像面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，所述凸起部的高度或所述凹陷部的深度为d；

其中，d＝λ(k+1/2)/(n_折-1)，λ为入射光的波长，k为正整数，n_折为对应光栅板的折射率。

第二方面，本发明实施例还提供了一种光刻机，包括上述第一方面所述的波像差测量装置。

本发明实施例提供的波像差测量装置包括照明系统，以及沿照明系统发出的光的光路依次排列的物面光栅板、投影物镜、像面光栅板以及光电探测器，物面光栅板和像面光栅板均为透明光栅板，物面光栅板包括物面光栅，物面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，凸起部的高度或凹陷部的深度为d，像面光栅板包括像面光栅，像面光栅由多个间隔均匀的凸起部或凹陷部排列组成，凸起部的高度或凹陷部的深度为d，其中，d＝λ(k+1/2)/(n_折-1)，λ为入射光的波长，k为正整数，n_折为对应光栅板的折射率，使得物面光栅和像面光栅均为二元相移光栅，其衍射光中没有零频光和偶数级衍射光，仅有正负1级衍射光，提高了用于波像差测量的光的光强，以及波像差测量的精度，此外，物面光栅和像面光栅均采用刻蚀透明板材的工艺形成，其工艺过程简单，制备成本低。

附图说明

为了更加清楚地说明本发明示例性实施例的技术方案，下面对描述实施例中所需要用到的附图做一简单介绍。显然，所介绍的附图只是本发明所要描述的一部分实施例的附图，而不是全部的附图，对于本领域普通技术人员，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图得到其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种波像差测量装置的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的一种物面光栅板的俯视结构示意图；