[发明专利]一种多狭缝组件成型方法及多狭缝组件

权利要求书

1.一种多狭缝组件成型方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)制作多狭缝刻蚀基材

根据设定的多狭缝形位关系指标要求，对刻蚀基材进行刻蚀，得到多狭缝刻蚀基材(3)，所述形位关系指标要求包括位置、尺寸、宽度；

2)装配多狭缝刻蚀基材

2.1)在狭缝上盖板(1)上开设第一通槽(11)，狭缝下盖板(5)上开设与第一通槽(11)配合的第二通槽(51)；在所述狭缝上盖板(1)或者狭缝下盖板(5)上设置修切垫(6)；

2.2)将多狭缝刻蚀基材(3)设置在狭缝上盖板(1)和狭缝下盖板(5)之间，使得光能够依次穿过狭缝上盖板(1)上的第一通槽(11)、多狭缝刻蚀基材(3)上的狭缝、狭缝下盖板(5)上的第二通槽(51)；在多狭缝刻蚀基材(3)与狭缝上盖板(1)和狭缝下盖板(5)之间分别设置非线性弹性垫圈(2)；

2.3)通过修研狭缝上盖板(1)和狭缝下盖板(5)之间修切垫(6)的高度，使多狭缝刻蚀基材(3)的直线度和平面度满足要求；

3)固定多狭缝刻蚀基材

将狭缝上盖板(1)和狭缝下盖板(5)固定。

2.根据权利要求1所述的一种多狭缝组件成型方法，其特征在于：

步骤1)制作多狭缝刻蚀基材(3)中，所述刻蚀基材采用厚度为0.3～1mm的钼合金材料；

步骤2.1)中，所述狭缝上盖板(1)和狭缝下盖板(5)均采用殷钢制成。

3.根据权利要求2所述的一种多狭缝组件成型方法，其特征在于：步骤2.1)中，在所述狭缝下盖板(5)的四个角上设置修切垫(6)，狭缝上盖板(1)上开有与修切垫(6)配合的沉台(7)。

4.根据权利要求1所述的一种多狭缝组件成型方法，其特征在于：步骤2.2)中，所述狭缝上盖板(1)和狭缝下盖板(5)上均设有用于安装非线性弹性垫圈(2)的环形凹槽(9)。

5.根据权利要求1至4任一所述的一种多狭缝组件成型方法，其特征在于，步骤1)制作多狭缝刻蚀基材，具体如下：

1.1)根据设定的多狭缝形位关系指标要求，制作耐酸腐蚀的掩膜模板，对掩膜模板进行造影精度检查，若合格，进行步骤1.2)；若不合格，返回步骤1.1)；

1.2)采用耐酸腐蚀胶将掩膜模板与刻蚀基材重叠粘接；

1.3)将粘接掩膜模板的刻蚀基材置于酸液中进行刻蚀，刻蚀完成后，显微造影检测刻蚀基材精度，若合格，进行步骤1.4)；若不合格，返回步骤1.1)；

1.4)使用释放溶剂将刻蚀基材与掩膜模板分离，得到多狭缝刻蚀基材(3)，分别检验基材狭缝成型精度及掩膜模板保持精度，若合格，则存储待用，若不合格，返回步骤1.1)。

6.根据权利要求5所述的一种多狭缝组件成型方法，其特征在于：步骤1.4)之后还包括步骤1.5)对存储待用的多狭缝刻蚀基材(3)进行镀金和/或表面阳极化染黑处理。

7.根据权利要求6所述的一种多狭缝组件成型方法，其特征在于：步骤3)固定多狭缝刻蚀基材，具体如下：

3.1)在狭缝上盖板(1)或狭缝下盖板(5)上的注胶孔(10)注胶，固定多狭缝刻蚀基材(3)；

3.2)通过螺钉连接将狭缝上盖板(1)和狭缝下盖板(5)固定。

8.一种多狭缝组件，其特征在于：包括狭缝上盖板(1)、与狭缝上盖板(1)固定连接的狭缝下盖板(5)、及设置在狭缝上盖板(1)与狭缝下盖板(5)之间的多狭缝刻蚀基材(3)；

所述狭缝上盖板(1)上开设第一通槽(11)，狭缝下盖板(5)设有与第一通槽(11)配合的第二通槽(51)，多狭缝刻蚀基材(3)与狭缝上盖板(1)和狭缝下盖板(5)之间分别设置有非线性弹性垫圈(2)；

所述狭缝上盖板(1)和狭缝下盖板(5)之间设有修切垫(6)；

所述狭缝上盖板(1)或狭缝下盖板(5)上设有注胶孔(10)，该注胶孔(10)内注有用于固定多狭缝刻蚀基材(3)的注胶。