[发明专利]一种光照射装置有效
申请号: | 201910361956.7 | 申请日: | 2019-04-30 |
公开(公告)号: | CN111856745B | 公开(公告)日: | 2023-03-17 |
发明(设计)人: | 许凯迪 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;G02B26/02 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201203 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 照射 装置 | ||
本发明公开了一种光照射装置。该装置包括线状光源;多个反射单元,围绕线状光源形成反射腔,反射腔包括出光口,线状光源出射的部分光束经至少一个反射单元反射后从出光口出射;多个第一探测单元,用于测量入射到对应的反射单元的光束的入射角和第一能量分布;多个旋转单元,用于带动反射单元旋转;第二探测单元,用于测量出光口的出射光束的出射角和第二能量分布;控制单元,用于获取入射角、第一能量分布、出射角和第二能量分布的数据,并根据预设出射角、预设能量分布和上述数据控制旋转单元旋转反射单元,以使出射光束以预设出射角和预设能量分布出射。本发明的技术方案,可实现出射光束的出射角和能量分布可调,以满足多种应用场景的需求。
技术领域
本发明实施例涉及光束调节技术,尤其涉及一种光照射装置。
背景技术
自然界中,由于许多材料在光照下会发生形态、性质等方面的改变,光照射装置广泛应用在光配向、固化、印刷、光清洗等技术领域。
现有的光照射装置,一般是通过线光源发射光束,经过槽状反射镜将光束反射到出光口出射。由于槽状反射镜反射光束的方向固定,光照射装置出射光的角度无法调节;出光口出射光线的能量分布为高斯分布,导致受光面接收的能量不均匀。
发明内容
本发明实施例提供一种光照射装置,以实现出射光束的出射角和能量分布可调。
本发明实施例提供了一种光照射装置,包括:
线状光源;
多个反射单元,多个所述反射单元围绕所述线状光源形成反射腔,所述反射腔包括出光口,所述线状光源位于所述反射腔内,所述反射单元的反射面朝向所述线状光源,所述线状光源出射的部分光束经过至少一个所述反射单元反射后从所述出光口出射;
多个第一探测单元,与所述反射单元一一对应,所述第一探测单元用于测量入射到对应的所述反射单元的光束的入射角和第一能量分布;
多个旋转单元,与所述反射单元一一对应并固定连接,所述旋转单元用于带动所述反射单元旋转;
第二探测单元,设置于所述反射腔的出光口,所述第二探测单元用于测量所述出光口的出射光束的出射角和第二能量分布;
控制单元,分别与所述第一探测单元、所述第二探测单元和所述旋转单元连接,所述控制单元用于获取所述入射角、所述第一能量分布、所述出射角和所述第二能量分布的数据,并根据预设出射角、预设能量分布、所述入射角、所述第一能量分布、所述出射角和所述第二能量分布的数据控制所述旋转单元旋转与所述旋转单元对应的所述反射单元,以使所述出光口的出射光束以所述预设出射角和所述预设能量分布出射;
其中,所述反射单元的数量为大于或等于4的偶数,且关于所述线状光源呈轴对称分布。
可选的,所述第一探测单元包括第一角度探测单元和第一能量探测单元,所述第一角度探测单元用于测量入射到所述反射单元的光束的入射角,所述第一能量探测单元用于测量入射到所述反射单元的光束的第一能量分布;
所述第二探测单元包括第二角度探测单元和第二能量探测单元,所述第二角度探测单元用于测量所述出光口的出射光束的出射角,所述第二能量探测单元用于测量所述出光口的出射光束的第二能量分布。
可选的,还包括:
偏振控制单元,位于所述第二探测单元的出光侧,用于调节所述出光口的出射光束的偏振态。
可选的,所述反射单元包括平面反射镜、抛物面反射镜、球面反射镜或椭球面反射镜的至少一种。
可选的,所述反射单元的反射面镀有反射膜。
可选的,所述出光口的延伸方向平行于所述线状光源的延伸方向;
所述第二探测单元的延伸方向垂直于所述出光口的延伸方向;
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