[发明专利]荧光探针及其制备方法和超分辨成像方法有效

专利信息
申请号: 201811529076.8 申请日: 2018-12-13
公开(公告)号: CN109735326B 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 吴长锋;刘志贺;刘洁;孙泽洲 申请(专利权)人: 南方科技大学
主分类号: C09K11/06 分类号: C09K11/06;G01N21/64
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 潘霞
地址: 518055 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 荧光 探针 及其 制备 方法 分辨 成像
【权利要求书】:

1.一种荧光探针,其特征在于,所述荧光探针的材料包括半导体聚合物量子点和荧光染料,所述半导体聚合物量子点为荧光共振能量转移的供体,所述荧光染料为所述荧光共振能量转移的受体,所述荧光探针能够发生荧光闪烁;

所述半导体聚合物量子点为聚[9,9-二辛基芴基-2,7-二基)],所述荧光染料为香豆素6;或者,所述半导体聚合物量子点为聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1,4-(1-氰基乙烯-1,4-苯基)],所述荧光染料为2,9,16,23-四-叔丁基-29H,31H酞菁。

2.根据权利要求1所述的荧光探针,其特征在于,所述半导体聚合物量子点和所述荧光染料的重量比为100:0.5~100:1。

3.根据权利要求1所述的荧光探针,其特征在于,所述荧光探针的材料还包括苯乙烯马来酸酐共聚物。

4.根据权利要求3所述的荧光探针的制备方法,其特征在于,所述苯乙烯马来酸酐共聚物与所述半导体聚合物量子点的重量比为1:2~1:20。

5.根据权利要求4所述的荧光探针的制备方法,其特征在于,所述苯乙烯马来酸酐共聚物与所述半导体聚合物量子点的重量比为1:5。

6.一种荧光探针的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

将半导体聚合物量子点、荧光染料与有机溶剂混合,得到前驱体溶液,其中,所述半导体聚合物量子点为荧光共振能量转移的供体,所述荧光染料为所述荧光共振能量转移的受体;

将所述前驱体溶液在超声震荡条件下注入到与所述前驱体溶液体积比为5:1~20:1的水中,得到超声溶液;

将所述超声溶液除去所述有机溶剂,得到残余物;

将所述残余物过滤,得到荧光闪烁的所述荧光探针;

所述半导体聚合物量子点为聚[9,9-二辛基芴基-2,7-二基)],所述荧光染料为香豆素6;或者,所述半导体聚合物量子点为聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1,4-(1-氰基乙烯-1,4-苯基)],所述荧光染料为2,9,16,23-四-叔丁基-29H,31H酞菁。

7.根据权利要求6所述的荧光探针的制备方法,其特征在于,所述前驱体溶液中,所述半导体聚合物量子点的浓度为100mg/L,所述荧光染料的浓度为0.5mg/L~1mg/L。

8.一种基于荧光共振能量转移调控的超分辨成像方法,其特征在于,包括以下步骤:

使用荧光探针进行亚细胞结构标记,得到标记物,其中,所述荧光探针的材料包括半导体聚合物量子点和荧光染料,所述半导体聚合物量子点为荧光共振能量转移的供体,所述荧光染料为所述荧光共振能量转移的受体,所述荧光探针能够发生荧光闪烁;所述半导体聚合物量子点为聚[9,9-二辛基芴基-2,7-二基)],所述荧光染料为香豆素6;或者,所述半导体聚合物量子点为聚[2-甲氧基-5-(2-乙基己氧基)-1,4-(1-氰基乙烯-1,4-苯基)],所述荧光染料为2,9,16,23-四-叔丁基-29H,31H酞菁;

拍摄所述标记物的荧光图像;

对所述荧光图像进行累积量分析。

9.根据权利要求8所述的基于荧光共振能量转移调控的超分辨成像方法,其特征在于,所述对所述荧光图像进行累积量分析的步骤包括:对所述荧光图像依次进行二阶累积量分析、三阶累积量分析及四阶累积量分析。

10.根据权利要求8所述的基于荧光共振能量转移调控的超分辨成像方法,其特征在于,拍摄所述标记物的荧光图像的帧数为200帧~1000帧。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南方科技大学,未经南方科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811529076.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top