[发明专利]一种抗磁抗蓝光保护膜及其制备方法

权利要求书

1.一种抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，包括：

第一剥离层；

复合在所述第一剥离层上的抗磁功能层；所述抗磁功能层由有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维、助剂和溶剂制备得到；

复合在所述抗磁功能层上的基材层；

复合在所述基材层上的抗蓝光功能层；所述抗蓝光功能层由胶黏剂和抗蓝光助剂制备得到；

复合在所述抗蓝光功能层上的第二剥离层。

2.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述抗磁功能层由如下组分制备得到：

3.根据权利要求1或2所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述改性本征型导电高分子树脂选自改性聚苯胺、改性聚吡咯和改性聚噻吩中的一种或几种。

4.根据权利要求1或2所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述金属纤维选自铁、铜和银中的一种或几种；所述金属纤维的粒径为200nm～2μm。

5.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述基材层为热塑性聚氨酯弹性基材；所述基材层的透光率为90％以上。

6.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述抗磁功能层、基材层和抗蓝光功能层的厚度比为(5～50μm)：(25～100μm)：(10～55μm)。

7.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述胶黏剂选自硅胶、亚克力胶、压敏胶和OCA胶中的一种或几种；所述抗蓝光助剂选自水杨酸酯类、苯酮类、苯并三唑类、取代丙烯腈类、三嗪类和受阻胺类中的一种或几种；所述胶黏剂与抗蓝光助剂的质量比为(95～99.95)：(0.05～5)。

8.根据权利要求1所述的抗磁抗蓝光保护膜，其特征在于，所述第一剥离层材料为PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种；所述第二剥离层材料为PET、PVC、PC、OPP和PE中的一种或几种。

9.一种抗磁抗蓝光保护膜的制备方法，包括以下步骤：

在基材的任意一面涂布包含有机硅树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯树脂和环氧树脂中的一种或几种与改性本征型导电高分子树脂、金属纤维和助剂的抗磁胶水，固化得到抗磁功能层；在所述抗磁功能层上复合第一剥离层；

在所述基材的另一面涂布包含胶黏剂和抗蓝光助剂的抗蓝光胶水，固化得到抗蓝光功能层；在所述抗蓝光功能层上复合第二剥离层，得到抗磁抗蓝光保护膜。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述涂布抗磁胶水的方式为微凹辊涂布；所述涂布抗蓝光胶水的方式为微凹辊涂布。