[实用新型]可钢化双银低辐射镀膜玻璃夹层制品有效
申请号: | 201420310367.9 | 申请日: | 2014-06-11 |
公开(公告)号: | CN204322624U | 公开(公告)日: | 2015-05-13 |
发明(设计)人: | 杨宏斌;李忠祥 | 申请(专利权)人: | 北京物华天宝安全玻璃有限公司 |
主分类号: | B32B9/04 | 分类号: | B32B9/04;B32B15/04;B32B27/06;B32B27/42 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人: | 汤东凤 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 可钢化双银低 辐射 镀膜 玻璃 夹层 制品 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种玻璃,特别是一种可钢化双银低辐射镀膜玻璃的夹层制品。
背景技术
现有可钢化低辐射双银镀膜中空玻璃,在安全性能上已不能满足高端客户的特殊需求.即要求双银的低辐射率,U值,同样要求玻璃的安全性能,玻璃碎后不至于掉落以致伤人。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种可钢化双银低辐射镀膜玻璃夹层制品。
为解决上述技术问题,本实用新型是按如下方式实现的:一种可钢化双银低辐射镀膜玻璃夹层制品,包括依次设置的浮法原片、基层复合介质层、由金属构成的第一阻挡层、第一银层、中层复合介质层、由金属构成的第二阻挡层、第二银层和复合顶层、PVB胶片层以及优质的浮法原片。
所述基层复合介质层:为Si3N4层和ZnO层,膜层厚度为30nm~55nm;
所述第一银层:为Ag层,膜层厚度为10nm~25nm;
所述第一阻挡层和所述第二阻挡层:为Cr层、NiCr层和Ti金属层,膜层厚度为3nm~10nm;
所述中层复合介质层为:Si3N4层和ZnO层,膜层厚度为60nm~90nm;
所述第二银层:为Ag层,膜层厚度为10nm~25nm;
所述复合顶层:为Si3N4层或SnO2层、TiO2层,膜层厚度为40nm~70nm;
PAB胶片层:厚度为0.76nm或1.14nm或1.52nm。
本实用新型的积极效果是:本实用新型所采用的双银低辐射膜层结构,可见光透过率较高、更低的U值和SC。在镀膜后高温钢化处理后,不影响产品的质量。这就意味该膜层的表面机械性能,化学性能,光学性能均相当稳定。夹层后更具有了夹层玻璃良好的安全性能,从而为广大用户所认可。
附图说明
图1是本实用新型一个实施例所提供的可钢化双银低辐射镀膜玻璃夹层制品的结构示意图。
其中,1、浮法原片 2、基层复合介质层 3、第一阻挡层4、第一银层 5、中层复合介质层 6、第二阻挡层 7、第二银层8、复合顶层 9、PVB胶片层 10、浮法原片
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1所示,本实用新型一个实施例所提供的可钢化双银低辐射镀膜玻璃夹层制品,包括依次设置的浮法原片1、基层复合介质层2、由金属构成的第一阻挡层3、第一银层4、中层复合介质层5、由金属构成的第二阻挡层6、第二银层7和复合顶层8、PVB胶片层9以 及优质的浮法原片10。
基层复合介质层2:为Si3N4层和ZnO层,膜层厚度为30nm~55nm。
第一银层4:为Ag层,膜层厚度为10nm~25nm。
由金属构成的第一阻挡层3和由金属构成的第二阻挡层6:通常为Cr、NiCr、Ti等金属元素层,膜层厚度为3nm~10nm。
中层复合介质层为5:为Si3N4层和ZnO层,膜层厚度为60nm~90nm。
第二银层7:为Ag层,膜层厚度为10nm~25nm。
复合顶层8:为Si3N4层或SnO2层、TiO2层,膜层厚度为40nm~70nm。
PAB胶片层9:厚度可以为0.76/1.14/1.52等。
顶部为优质浮法原片。
PVB胶片和外片经过夹层工序压辊压制成型,然后进入高压釜内经过高温高压烧制,最终成为我们要求的双银低辐射镀膜玻璃的夹层制品。继而对膜层提出了很高的要求:
1、要经得起220℃±25℃高温的烘烤,膜层不会烧坏,颜色不会发生变化;
2、在夹层加工过程中不能出现出现膜层氧化以及隔伤现象;
3、加工过程中,膜面保持钢化后原样。
4、保证夹层清洗机的清洗效果,避免出现水迹印等缺陷。
此种可钢化低辐射双银镀膜玻璃的夹层制品,即具有双银玻璃绝佳的隔热保温性能,同样具有相当高的安全系数,而且可以异地加工,为更多加工节省了转运费用.
本实用新型所采用的双银低辐射膜层结构,可见光透过率较高、 更低的U值和SC。在镀膜后高温钢化处理后,不影响产品的质量。这就意味该膜层的表面机械性能,化学性能,光学性能均相当稳定。夹层后更具有了夹层玻璃良好的安全性能,而且可以异地加工,为更多加工节省了转运费用,从而为广大用户所认可。
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