[发明专利]六工位CCD检测机遮光暗箱

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学量测，尤其涉及一种六工位CCD检测机遮光暗箱。

背景技术

光学测量是光电技术与机械测量结合的高科技。借用计算机技术，可以实现快速，准确的测量。方便记录，存储，打印，查询等等功能。据中国仪器超市介绍，光学测量主要应用在现代工业检测，主要检测产品的形位公差以及数值孔径等是否合格。主要应用的行业领域有：金属制品加工业、模具、塑胶、五金、齿轮、手机等行业的检测，以及工业界的产品开发、模具设计、手扳制作、原版雕刻、RP快速成型、电路检测等领域。主要仪器表现为：二次元、工具显微镜、光学影像测量仪、光学影像投影仪、三次元、三坐标测量机、三维激光抄数机等。在机械制造行业中，为了使机加工的产品能达到设计精度和质量要求，除了传统的物理计量与检测实现方法，可以运用高性能计算机及软件技术、光学、光学成像、声学与机器动作多种混合技术实现的逻辑计量与检测，我们习惯将这些复杂的计量与检测技术称之为非接触计量与检测技术。将这些非接触计量与检测技术应用到为客户定制的计量与检测工具和设备之中，在实际项目中取得了满意的预期效果。CCD是使用一种高感光度的半导体材料集成，它能够根据照射在其面上的光线产生相应的电荷信号，在通过模数转换器芯片转换成“0”或“1”的数字信号，这种数字信号经过压缩和程序排列后，可由闪速存储器或硬盘卡保存即收光信号转换成计算机能识别的电子图像信号，可对被侧物体进行准确的测量、分析。传统的CCD检测时容易漏光，反光，造成被检产品误检。

发明内容

本发明的目的在于提供一种提高了检测效果及稳定性，从而提高被检产品的品质等特点的六工位CCD检测机遮光暗箱。

为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种六工位CCD检测机遮光暗箱，包括遮光暗箱主体，所述遮光暗箱主体包括外部暗箱、滑轨、遮光罩和内部暗箱，所述外部暗箱为底部开放的长方形箱体，所述滑轨上端垂直固定在所述外部暗箱内侧，所述内部暗箱为顶部开放的长方形箱体，所述内部暗箱侧面设有一个卡扣，所述卡扣可移动的设置在所述滑轨底端，所述遮光罩为双层遮光罩，所述内部遮光罩镶嵌在所述外层遮光罩中间槽内，所述外层遮光罩固定在所述内部暗箱上侧，所述遮光罩框架采用黑色材料制成。

在本发明一个较佳实施例中，所述黑色材料为铝合金。

在本发明一个较佳实施例中，所述遮光罩定位精度为0.02mm。

在本发明一个较佳实施例中，所述黑色材料通过黑色阳极氧化处理。

在本发明一个较佳实施例中，所述外部暗箱内部涂有吸光层。

本发明的六工位CCD检测机遮光暗箱具有提高了检测效果及稳定性，从而提高被检产品的品质等特点。

附图说明

图1是本发明六工位CCD检测机遮光暗箱一较佳实施例的立体结构示意图；

图2是图1内部暗箱的局部结构示意图；

附图中各部件的标记如下：1、外部暗箱，2、滑轨，3、遮光罩，4、内部暗箱，4、卡扣。

具体实施方式

以上仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以一较佳实施例以及附图对本发明的技术方案作进一步的说明。

参阅图1，一种六工位CCD检测机遮光暗箱，包括遮光暗箱主体，所述遮光暗箱主体包括外部暗箱1、滑轨2、遮光罩3和内部暗箱4，所述外部暗箱1为底部开放的长方形箱体，所述滑轨2上端垂直固定在所述外部暗箱1内侧，所述内部暗箱4为顶部开放的长方形箱体，所述内部暗箱4侧面设有一个卡扣41，所述卡扣41可移动的设置在所述滑轨2底端，所述遮光罩3为双层遮光罩，所述内部遮光罩镶嵌在所述外层遮光罩中间槽内，所述外层遮光罩固定在所述内部暗箱4上侧，所述遮光罩3框架采用黑色材料制成。

本发明的六工位CCD检测机遮光暗箱，所述外部暗箱为底部开放的长方形箱体，其尺寸为直径582cm，高337.5cm，外部暗箱内壁涂有吸光层，所述遮光罩通过双层遮光，提高遮光效果，遮光罩框架采用黑色材料及通过发黑及磨砂处理，外层遮光罩把外部光源遮蔽，内遮光罩遮蔽被检产品的四周框架，防止零件的折射光，杜绝产品本身的反光，所述黑色材料为铝合金，所述黑色材料通过黑色阳极氧化处理。通过定位精度来保证每工位、每次量测的数据准确性，准确保证遮光罩定位精度为0.02mm。因此本发明的六工位CCD检测机遮光暗箱具有提高了检测效果及稳定性，从而提高被检产品的品质等特点。

以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围。