[发明专利]一种电子产品外壳及其表面处理工艺

权利要求书

1.一种电子产品外壳的表面处理工艺，其特征在于，该工艺包括：

在外壳上喷涂底漆；

通过真空镀膜，在所述底漆上镀出镀膜层；

在所述镀膜层上喷涂中漆；

在所述中漆上喷涂哑光面漆；

在所述哑光面漆的局部区域进行遮蔽处理，在经遮蔽处理的哑光面漆上喷涂亮光面漆；

所述底漆厚度为25-30um，烘烤温度为50±5°，紫外光固化能量为600-800mj/cm²；

所述中漆厚度为8-10um，烘烤温度为55±5°，紫外光固化能量为500-700mj/cm²；

所述哑光面漆厚度为20-25um，烘烤温度为55±5°，紫外光固化能量为800-1000mj/cm²；

所述亮光面漆厚度为25-30um，烘烤温度为55±5°，紫外光固化能量为800-1000mj/cm²。

2.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺，其特征在于，所述底漆为紫外光固化漆或聚氨酯漆，所述中漆为紫外光固化漆，所述哑光面漆为紫外光固化漆，所述亮光面漆为紫外光固化漆。

3.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺，其特征在于，所述真空镀膜采用不连续镀膜技术工艺。

4.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺，其特征在于，所述底漆是透明的，所述中漆是彩色的。

5.根据权利要求1所述的电子产品外壳的表面处理工艺，其特征在于，真空镀膜是在真空条件下，将欲镀靶材通过直接加热或间接加热，使之溶解，然后蒸发，或者直接由固体升华为气体，获得足够能量的原子或分子飞向并沉积在底漆表面，沉积一定厚度的镀膜层。