[发明专利]流体喷射装置和流体喷射方法有效
申请号: | 201310361996.4 | 申请日: | 2010-08-18 |
公开(公告)号: | CN103522756A | 公开(公告)日: | 2014-01-22 |
发明(设计)人: | 田之上刚;石本文治 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B41J29/38 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 刘瑞东;陈海红 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 流体 喷射 装置 方法 | ||
1.一种流体喷射装置,其特征在于,具备:
喷射第1流体的第1喷嘴列;
喷射第2流体的第2喷嘴列;
移动机构,其使上述第1喷嘴列和上述第2喷嘴列相对于介质在移动方向移动;
传送机构,其使介质相对于上述第1喷嘴列和上述第2喷嘴列在规定方向传送;
控制部,其进行控制以反复进行由上述移动机构使上述第1喷嘴列和上述第2喷嘴列在上述移动方向移动并从上述第1喷嘴列喷射上述第1流体和从上述第2喷嘴列喷射上述第2流体的图像形成动作和由上述传送机构使介质相对于上述第1喷嘴列和上述第2喷嘴列在上述规定方向传送的传送动作;以及
不喷射流体的第3喷嘴列;
其中,上述控制部,进行控制以利用上述第1喷嘴列形成第1图像,并进行控制以至少利用上述第2喷嘴列在上述第1图像上形成第2图像,
上述第1喷嘴列在上述规定方向位于上述第2喷嘴列的上游,
上述第3喷嘴列在上述规定方向位于上述第1喷嘴列的下游且位于上述第2喷嘴列的上游。
2.根据权利要求1所述的流体喷射装置,其特征在于,
上述控制部进行控制以改变上述第3喷嘴列的喷嘴数。
3.根据权利要求2所述的流体喷射装置,其特征在于,
基于所使用的流体或介质进行上述控制部进行的改变上述第3喷嘴列的喷嘴数的控制。
4.根据权利要求1所述的流体喷射装置,其特征在于,
上述控制部进行控制以将上述第1喷嘴列的喷嘴数设定为与上述第2喷嘴列的喷嘴数不同。
5.根据权利要求1所述的流体喷射装置,其特征在于,
上述控制部进行控制以通过上述传送机构将上述介质传送规定的传送量,设置上述第3喷嘴列的区域的上述规定方向的长度大于与上述规定的传送量对应的长度。
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