[发明专利]彩色滤光片及其制造方法，半透半反式液晶显示装置

权利要求书

1.一种彩色滤光片，包括：

透明基底；

形成于透明基底表面上并将透明基底表面分隔为多个滤光区的多个分隔物；

与所述分隔物交替分布并覆盖每个滤光区的色素层；

形成于至少一个滤光区上的所述色素层中的光孔；

其特征在于，还包括：

至少设于所述色素层和所述光孔上方的平坦保护层；

其中，所述平坦保护层位于所述色素层上方的部分的上表面与所述平坦保护层位于所述光孔上方的部分的上表面相平。

2.根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，还包括柱状隔垫物，所述柱状隔垫物位于所述分隔物上方，且其上表面高于所述平坦保护层的上表面。

3.根据权利要求2所述的彩色滤光片，其特征在于，所述柱状隔垫物与所述平坦保护层是一体化的。

4.根据权利要求1-3任一项所述的彩色滤光片，其特征在于；所述分隔物是光刻胶分隔物或黑矩阵。

5.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

在透明基底表面上形成将透明基底表面分隔为多个滤光区的多个分隔物；

形成与所述分隔物交替分布并覆盖每个滤光区的色素层；

在至少一个滤光区上的所述色素层中形成光孔；

形成覆盖所述分隔物、所述色素层和所述光孔的光刻胶层；

通过灰阶掩膜版对所述光刻胶层进行一次曝光，形成分布在所述色素层上方的部分的平坦保护层，以及分布在各个光孔上方的部分的平坦保护层;其中，所述平坦保护层位于所述色素层上方的部分的上表面与所述平坦保护层位于所述光孔上方的部分的上表面相平。

6.根据权利要求5所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，通过灰阶掩膜版对光刻胶层曝光的同时，还形成分布在分隔物上方的柱状隔垫物，且所述柱状隔垫物的上表面高于所述平坦保护层的上表面。

7.根据权利要求6所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，对所述分隔物上方的光刻胶进行完全曝光，对所述色素层上方的光刻胶进行曝光的曝光量=H4/H3×A，对所述光孔上方的光刻胶进行曝光的曝光量=(H2+H4)/H3×A，其中，A为完全曝光的曝光量，H2为所述色素层的厚度，H3为所述分隔物上方的光刻胶的厚度，H4为所述平坦保护层位于色素层上方的部分的厚度，H2+H4为所述平坦保护层位于光孔上方的部分的厚度。

8.根据权利要求5所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述分隔物是光刻胶分隔物或黑矩阵。

9.一种半透半反式液晶显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一项所述的彩色滤光片。