[发明专利]强化玻璃基板的刻划方法及刻划装置有效
申请号: | 201210362076.X | 申请日: | 2012-09-20 |
公开(公告)号: | CN103086594A | 公开(公告)日: | 2013-05-08 |
发明(设计)人: | 高松生芳;辜志弘;森亮 | 申请(专利权)人: | 三星钻石工业股份有限公司 |
主分类号: | C03B33/02 | 分类号: | C03B33/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本大阪府*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 强化 玻璃 刻划 方法 装置 | ||
1.一种强化玻璃基板的刻划方法,是对在基板表面形成有压缩应力层的强化玻璃基板形成刻划线,其特征在于其包括以下步骤:
(a)剥离步骤,在进入较该基板的一端缘内侧的位置,使具有点状尖端或线状尖端的刻划构件对该基板由上方下降并碰触而形成碰触痕,藉此剥离基板表面的压缩应力层,形成该碰触痕作为刻划的起点的触发槽;以及
(b)刻划步骤,藉由使刀轮抵接该触发槽并压接转动,形成刻划线。
2.根据权利要求1所述的强化玻璃基板的刻划方法,其特征在于其中,该刻划构件,是前端已削尖的尖刀,或者,在前端形成直线刀面的固定刀。
3.根据权利要求1所述的强化玻璃基板的刻划方法,其特征在于其中,该刻划构件是刀轮。
4.根据权利要求1所述的强化玻璃基板的刻划方法,其特征在于其中,在该剥离步骤,藉由使该刻划构件从该碰触痕水平地移动,扩大为1mm~3mm的长度的触发槽。
5.根据权利要求1至4中任一权利要求所述的强化玻璃基板的刻划方法,其特征在于其中,以碰触痕的深度较压缩应力层的厚度小的方式使刻划构件碰触。
6.一种刻划装置,用于对在基板表面形成有压缩应力层的强化玻璃基板形成刻划线,其特征在于其包括:
刻划构件,具有用以在基板形成碰触痕的点状尖端或线状尖端;
刀轮,用于从该碰触痕沿着刻划预定线转动;
升降机构,使该刻划构件及该刀轮升降;以及
控制部,进行升降机构的控制;
该控制部是以下述方式进行控制,即藉由该刻划构件形成碰触痕时,使该刻划构件下降与基板碰触,并在碰触后上升以从基板离开,在转动刀轮时,使该刀轮下降,维持抵接并进行压接转动。
7.根据权利要求6所述的刻划装置,其特征在于其中,该刻划构件,是前端已削尖的尖刀,或者,在前端形成直线刀面的固定刀。
8.根据权利要求6所述的刻划装置,其特征在于其中,该刀轮被兼用为该刻划构件。
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