[发明专利]一种二氧化硅靶材及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202310992604.8 | 申请日： | 2023-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN116926469A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 姚力军;潘杰;王佳乾;廖培君;杨慧珍 | 申请（专利权）人： | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/10 | 分类号： | C23C14/10;C23C14/34;B23K1/20 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 徐浩 |
| 地址： | 315400 浙江省宁波市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种二氧化硅靶材及其制备方法和应用，所述制备方法包括以下步骤：1)对二氧化硅靶坯、背板和焊料进行分段加热，然后对所述二氧化硅靶坯和背板进行浸润处理，使焊料分别浸润所述二氧化硅靶坯的焊接面和所述背板的焊接面；2)将浸润处理后的所述二氧化硅靶坯扣合在浸润处理后的所述背板上，并在所述二氧化硅靶坯的溅射面上放置压块加压，实现焊接；3)冷却，对焊接组件进行整平处理，得到所述二氧化硅靶材。本发明提供了一种操作简单且成本低的方法，不仅缩短了焊接周期，提高了焊接效率，使得焊接结合率≥97％，焊接后的平面度小于1mm，而且解决了靶材变形以及开裂问题。该二氧化硅靶材磁控溅射过程稳定，可满足使用要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 二氧化硅 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
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