[发明专利]用于基板处理的原位膜生长速率监视设备、系统及方法在审
| 申请号： | 202280014755.X | 申请日： | 2022-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN116940800A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | 丛者澎;尼欧·谬;盛涛;郑勇 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G01B11/06 | 分类号： | G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;吴启超 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本公开内容的实施方式总体涉及用于原位膜生长速率监视的设备、系统、及方法。在基板处理操作期间监视基板上的膜厚度，所述基板处理操作在基板上沉积膜。在进行基板处理操作时监视厚度。监视包括在朝向结晶试样的方向上引导光。所述方向垂直于加热方向。在一个实施方式中，在基板处理操作期间用于监视膜生长的反射计系统包括第一区块，所述第一区块包括第一内表面。反射计系统包括在第一区块中设置并且朝向第一内表面定向的光发射器、及在第一区块中设置并且朝向第一内表面定向的光接收器。反射计系统包括与第一区块相对的第二区块。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 处理 原位 生长 速率 监视 设备 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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