[发明专利]阵列基板、发光装置在审
申请号: | 202280000252.7 | 申请日: | 2022-02-23 |
公开(公告)号: | CN116940887A | 公开(公告)日: | 2023-10-24 |
发明(设计)人: | 张冰;汤海;王肖;吕超忍;康萍;高亮 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方瑞晟科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13357 | 分类号: | G02F1/13357 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 冀晓恺 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本申请提供了一种阵列基板、发光装置,涉及显示技术领域,该阵列基板包括:衬底;位于衬底上的多个导电垫组,导电垫组包括至少一个导电垫;导电垫包括导电层和第一连接层,第一连接层位于导电层远离衬底的一侧,第一连接层在衬底上的正投影与导电层在衬底上的正投影至少部分交叠;其中,第一连接层沿衬底厚度方向上的厚度大于或等于导电层沿衬底厚度方向上的厚度。本申请提供的阵列基板与元器件之间具有较高的导通稳定性,本申请提供的阵列基板在制备过程中具有较高的良率。 | ||
搜索关键词: | 阵列 发光 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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