[实用新型]一种氢氟酸刻蚀硅片的装置

摘要

本实用新型提供了一种氢氟酸刻蚀硅片的装置，属于半导体器件技术领域。本实用新型提供的一种氢氟酸刻蚀硅片的装置，包括酸液槽、多组滚轮以及加热丝，酸液槽用于盛装氢氟酸；多组滚轮转动安装在酸液槽内，用于传输硅片；滚轮的上表面低于氢氟酸的液面；加热丝安装在滚轮上，用于对硅片的下表面进行加热。本实用新型提供的一种氢氟酸刻蚀硅片的装置，加热丝产生的热量能够提升壳体、壳体周边以及硅片下表面的温度，只在化学反应的局部产生热量，而并非对整个酸液槽都进行加热，可大大降低热能的消耗，可大幅降低氢氟酸的挥发量，减少氢氟酸的浪费，提高了化学反应的界面处的温度，加快了反应速率，得以提升传输速度，提升设备产能。