[发明专利]一种少层石墨烯粉体的制备方法及其应用有效
申请号: | 202110999980.0 | 申请日: | 2021-08-30 |
公开(公告)号: | CN113443620B | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 文钟强;刘思;刘建忠 | 申请(专利权)人: | 湖南金阳烯碳新材料有限公司 |
主分类号: | C01B32/19 | 分类号: | C01B32/19;H01M4/62;H01M10/06;H01B1/04 |
代理公司: | 长沙朕扬知识产权代理事务所(普通合伙) 43213 | 代理人: | 魏龙霞 |
地址: | 410004 湖南省长沙*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | 本发明公开了一种少层石墨烯粉体的制备方法:将去离子水、无机插层剂搅拌预分散、高速剪切,得到无机插层液;其中,无机插层剂为纳米气相二氧化硅、超细硫酸钡、纳米碳酸钙、纳米二氧化钛、纳米氧化铁、纳米氧化锆、纳米氧化锌、球形氧化铝、炭黑、碳纳米管中的一种或几种;将膨胀石墨、乙二醇加入到无机插层液中进行搅拌预分散、高速剪切、高压剥离,得到少层石墨烯纳米分散液;再经离心或压滤浓缩、烘干、粉碎,得到少层石墨烯粉体。本发明选择水中不溶的无机插层剂作为制备石墨烯的插层剂,在石墨烯中不会造成残留,从而保证石墨烯的品质,同时插层剂完成插层楔入石墨烯片层之间还可以抑制石墨烯的团聚。 | ||
搜索关键词: | 一种 石墨 烯粉体 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
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