[发明专利]基板处理装置和中继构件的驱动方法在审
| 申请号： | 202110851982.5 | 申请日： | 2021-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN114068280A | 公开（公告）日： | 2022-02-18 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木信峰;松浦伸 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供在驱动部位也能够准确地测量压力的基板处理装置和中继构件的驱动方法。基板处理装置具有腔室、屏蔽构件以及中继构件。腔室具有利用导入的气体执行对基板的处理的处理室和对处理室内的气体进行排气的排气室。屏蔽构件设于腔室的侧壁附近的至少局部，屏蔽构件将处理室与排气室隔开，并且在屏蔽构件的与腔室的侧壁平行的壁面的局部具有连通处理室和排气室的孔，屏蔽构件能够在上下方向上驱动。中继构件为中空，中继构件与连接于腔室的外部的计量仪器的配管连接，中继构件能够在水平方向上驱动，在屏蔽构件到达了上端时，中继构件被向腔室的中心方向驱动，从而中继构件的中心方向侧的端部与屏蔽构件连接，并且借助孔连通处理室和配管。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 中继 构件 驱动 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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