[发明专利]一种智能蒸发镀膜方法有效
| 申请号： | 202110495868.3 | 申请日： | 2021-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN113186496B | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | 李成林;杜雪峰;郝明 | 申请（专利权）人： | 辽宁分子流科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/54;C23C14/56 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 110179 辽宁省沈阳*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种智能蒸发镀膜方法，主要包括以下步骤：（1）启动智能蒸发镀膜机的真空系统对镀膜室抽真空；（2）当镀膜室的真空度达到工艺要求时，启动蒸发源和中央智能控制模块；中央智能控制模块对蒸发源的蒸发区域的边界进行智能柔性闭环调控；（3）当沉积膜层在镀膜幅宽方向上呈现出所需的膜厚分布状态时，启动基片传送系统，使基片在蒸发区域上方持续地走行，通过蒸发镀膜过程在基片上形成符合预期膜厚分布的膜层；在整个蒸发镀膜过程中，保持该膜厚分布状态的稳定。在步骤（3）的蒸发镀膜过程中，不采用设置修正挡板或屏蔽板的手段对膜层的厚度进行控制。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 智能 蒸发 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
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