[发明专利]一种适于接触式光刻机的曝光装置在审
| 申请号： | 202110449124.8 | 申请日： | 2021-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN113176712A | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 张俊杰 | 申请（专利权）人： | 上海图双精密装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海海贝律师事务所 31301 | 代理人： | 宋振宇 |
| 地址： | 201712 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种适于接触式光刻机的曝光装置，包括基片以及设置在基片一侧的轨道，所述轨道的上方设有安装座，所述安装座与轨道之间设有行走结构，所述安装座的上方转动安装有连接架，所述连接架靠近基片的一侧安装有曝光遮挡主体，所述曝光遮挡主体上开设有曝光孔，所述曝光遮挡主体上安装有用以调整曝光孔大小的调节结构，本发明的曝光遮挡主体的位置可通过行走结构和旋转的安装架进行调整，以实现曝光遮挡主体能够到达基片上的所有位置，并且能够使得曝光遮挡主体撤离基片，使得本装置能够区域曝光和全方位曝光两种状态，曝光孔能够移动到基板的边角处，实现边角曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适于 接触 光刻 曝光 装置 | ||
【主权项】：
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