[发明专利]光学系统线性测量装置及方法在审
| 申请号： | 202110436259.0 | 申请日： | 2021-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN113125125A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 冯国进;许宁;马宇轩 | 申请（专利权）人： | 中国计量科学研究院 |
| 主分类号： | G01M11/02 | 分类号： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 韩世虹 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学系统线性测量装置，包括：光源，发射出光束；遮光组件，包括遮光片，所述遮光片围绕自身以外的转轴转动，所述遮光片适于在转动过程中使所述光束在通过状态和遮挡状态之间切换；在所述通过状态，所述遮光片不影响所述光束通过；在所述遮挡状态，所述遮光片至少部分遮挡所述光束通过。通过调整遮光片遮挡光束的比例，可以使光束以预定的比例分别到达光学系统。通过获取不同接收状态下光学系统的读数，进而计算光学系统的线性水平。遮光片的结构简单，对光束的干扰较小，可以应用于光斑较小或者光束能量较低的情况，拓展了光学系统线性测量的覆盖范围。 | ||
| 搜索关键词： | 光学系统 线性 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
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