[发明专利]一种适用广泛的高效周抛机

摘要

本发明公开了一种适用广泛的高效周抛机，包括壳体、底座、抛光模组和定位模组。定位模组包括定位支座和定位模块，定位支座用于支撑定位模块，抛光模组和定位模组均设置在底座上，抛光模组设有多个，定位模组对应每个抛光模组都设置一个定位模块，且抛光模组设置在定位模块的外侧边，所述定位模块通过上下夹紧和同步转动的方式实现产品的定位。通过上、下均可转动的定位模组实现对异形工件的定位夹紧，增加了周抛机的适用范围。且可自动转动调整加工面的定位装置，省略了多次人工定位，使得工件在抛光过程中受力均匀，抛光质量高。同时多个定位模组与抛光模组的结合，在对工件进行抛光时，可以多组模组同时进行，抛光效率高。