[发明专利]一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用有效
| 申请号： | 202110395963.6 | 申请日： | 2021-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN113047326B | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 王建秀;吴凡;李胡博强;龙燕霞;武昭;刘笑天;龙冠宏;何倩倩;薛睿;徐娜 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | E02D19/16 | 分类号： | E02D19/16;C09K17/42 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 蒋亮珠 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用，该装置包括：至少一个回灌井水驱机构，用于将水灌入基坑底部土层，并形成驱动渗流场，以驱动后续浆液的定向扩散运移；多个回灌井注入机构，用于向土层中灌入浆液；帷幕形成机构，用于向回灌井注入机构中提供浆液；所述的回灌井水驱机构包括内圈回灌井(15)，所述的回灌井注入机构包括注入回灌井(23)和中心回灌井，所述的注入回灌井(23)分布在内圈回灌井(15)的外圈，所述的中心回灌井位于内圈回灌井(15)内圈。与现有技术相比，本发明能够实现超深基坑的水平减渗帷幕的形成，对于目前技术无法施作水平帷幕的超深基坑实现良好隔水效果有重大意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基坑 水平 帷幕 形成 装置 及其 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学，未经同济大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110395963.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
