[发明专利]上电极电源功率调节方法、半导体工艺设备在审
| 申请号： | 202110356810.0 | 申请日： | 2021-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN113113282A | 公开（公告）日： | 2021-07-13 |
| 发明（设计）人： | 卫晶;陈星;张宇;韦刚;杨京;王桂滨;岳昕 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;王婷 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半导体工艺设备的上电极电源功率调节方法，包括：获取基准工艺腔室和当前工艺腔室进行半导体工艺步骤时对应的上电极电源的工艺负载；根据当前工艺腔室对应的工艺负载和基准工艺腔室对应的工艺负载，确定当前工艺腔室进行对应半导体工艺步骤时的补偿系数；在进行半导体工艺步骤时，控制当前工艺腔室的上电极电源输出补偿功率。本发明提供的功率调节方法根据不同工艺腔室的工艺负载对各当前工艺腔室的上电极电源功率进行调整，使当前工艺腔室中加载至等离子体的功率与基准工艺腔室保持一致，从而提高了不同工艺腔室中等离子体的参数一致性，进而提高了工艺结果的一致性。本发明还提供一种半导体工艺设备。 | ||
| 搜索关键词： | 电极 电源 功率 调节 方法 半导体 工艺设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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