[发明专利]彩膜缺陷的测高方法、设备及介质有效
| 申请号： | 202110353627.5 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN112904605B | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 郭号;陈翔;袁海江 | 申请（专利权）人： | 长沙惠科光电有限公司;惠科股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13 | 分类号： | G02F1/13 |
| 代理公司： | 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 | 代理人： | 晏波 |
| 地址： | 410300 湖南省长*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种彩膜缺陷的测高方法、设备及介质，所述方法包括：获取缺陷区域对应的缺陷标识；根据所述缺陷标识调整所述缺陷区域的测高补偿参数；根据所述测高补偿参数以及缺陷区域中心坐标信息确定测高基准面；根据所述测高基准面对所述缺陷区域进行测高以确定缺陷高度。解决了现有技术中彩膜缺陷区域测高不准确的技术问题，达到了提高彩膜缺陷区域的测高准确性的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 测高 方法 设备 介质 | ||
【主权项】：
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