[发明专利]一种Rb掺杂的石榴石型固态电解质的表面处理方法在审
| 申请号： | 202110348448.2 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN113073309A | 公开（公告）日： | 2021-07-06 |
| 发明（设计）人： | 唐浩林;王仲明;陈智伟;陈志华;詹心泉 | 申请（专利权）人： | 光鼎铷业（广州）集团有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/40;C23C16/56;H01M10/0525;H01M10/0562;H01M10/058 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 张秋燕 |
| 地址： | 510040 广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种Rb掺杂的石榴石型固态电解质的表面处理方法，采用具有曝光模式的原子层沉积系统在铷掺杂的石榴石型固态电解质LLZRO陶瓷片上直接镀一层对空气稳定的Li |
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| 搜索关键词： | 一种 rb 掺杂 石榴石 固态 电解质 表面 处理 方法 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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