[发明专利]一种超硬耐高温Ta-C涂层的制备工艺有效

专利信息
申请号: 202110296863.8 申请日: 2021-03-19
公开(公告)号: CN113061844B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 张心凤;夏正卫;李灿民;范洪跃 申请(专利权)人: 安徽纯源镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/14;C23C14/34;C23C14/02
代理公司: 合肥九道和专利代理事务所(特殊普通合伙) 34154 代理人: 胡发丁
地址: 230088 安徽省合肥市高*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种超硬耐高温Ta‑C涂层的制备工艺,包括将工件置于真空腔室内,对真空腔室进行抽气处理,抽气处理后对真空腔室、纯离子镀膜源、工件中的一者或几者进行除杂处理,除杂处理后,采用溅射镀膜在工件表面依次制备种子层、金属过渡层、Ta‑C过渡层、Ta‑C交替层和Ta‑C主功能层,所述的种子层为Ni、Cr、NiCr、NiAl中的一者;金属过渡层为Ti、TiSi、TiAl、TiCr中的一者;制备Ta‑C过渡层时,工件连接的偏压值为T1的偏压;制备Ta‑C交替层时,工件交替连接偏压值为T2、T3的偏压,制备Ta‑C主功能层时,工件连接偏压值为T4的偏压,其中T1>T2>T3>T4。本发明提供的上述方案,其制备的膜层性能优异,膜层超硬且耐高温。
搜索关键词: 一种 耐高温 ta 涂层 制备 工艺
【主权项】:
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