[发明专利]一种立式高温炉真空密封反射屏炉膛结构在审
| 申请号： | 202110285869.5 | 申请日： | 2021-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN112857045A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 张海林;吴季浩;刘国霞;滕玉朋 | 申请（专利权）人： | 青岛赛瑞达电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | F27D1/00 | 分类号： | F27D1/00;F27D1/18;F27D9/00;F27D11/00;F27D21/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266000 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明的一种立式高温炉真空密封反射屏炉膛结构，包括炉盖、炉壳、炉底法兰通过螺栓紧固、密封圈密封且炉底法兰活动密封安装有密封法兰和工艺管的真空密封炉膛，真空密封炉膛内部包括由工艺管限定的工艺腔室，用于进行工艺片的工艺过程，所述真空密封炉膛内部设有炉盖隔热屏、炉壳隔热屏、炉底隔热屏，所述炉盖隔热屏、炉壳隔热屏、炉底隔热屏之间呈迷宫状密封接缝，所述炉盖隔热屏、炉壳隔热屏、炉底隔热屏与所述工艺管之间设有加热腔，所述加热腔内设置加热器。本发明通过在真空密封炉膛内设置多层隔热屏间隔层叠而成的炉盖隔热屏、炉壳隔热屏、炉底隔热屏，且三组隔热屏迷宫状密封接缝，使得立式高温氧化炉中向外扩散的热量得到反射，不仅使得加热达到的温度能够稳定的保持，减少能源消耗，而且还减少了对炉外组件的高温影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 立式 高温 真空 密封 反射 炉膛 结构 | ||
【主权项】：
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