[发明专利]核孔膜蚀刻线自反馈联动生产控制装置有效

专利信息
申请号: 202110269793.7 申请日: 2021-03-12
公开(公告)号: CN113050564B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: 李运杰;莫丹;胡正国;段敬来;姚会军;刘杰 申请(专利权)人: 中国科学院近代物理研究所
主分类号: G05B19/418 分类号: G05B19/418;C08J7/12
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 代理人: 刘美丽
地址: 730000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明涉及一种核孔膜蚀刻线自反馈联动生产控制装置,包括核孔膜蚀刻线本体装置、蚀刻液残渣自动处理单元,被配置为对蚀刻液浓度进行监测,并对残渣进行清洗;蚀刻液温度自动监测单元,被配置为对蚀刻液温度进行监测,通过温度监测与自动加热实现蚀刻液温度平衡;蚀刻膜孔密度探测单元,被配置为通过对显微镜下的蚀刻膜图像进行分析,实现蚀刻膜孔密度探测;自反馈自动化生产单元,被配置为通过对蚀刻膜厚度测量,利用蚀刻膜厚度与卷膜机速度关系实现核孔膜蚀刻的自动化生产。本发明的核孔膜蚀刻线自反馈联动生产控制装置能够以自动化的生产方式显著提高核孔膜蚀刻的生产效率,降低残次率。
搜索关键词: 核孔膜 蚀刻 反馈 联动 生产 控制 装置
【主权项】:
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