[发明专利]一种简易紫外纳米压印光刻装置有效
| 申请号： | 202110246076.2 | 申请日： | 2021-03-05 |
| 公开（公告）号： | CN113031391B | 公开（公告）日： | 2023-06-30 |
| 发明（设计）人： | 兰俊;刘锡;杨勇;陈磊;余斯洋;龚健文;赵立新;胡松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 杨学明 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种简易紫外纳米压印光刻装置，包括气动压印系统、紫外照明系统、气控系统、电控系统和壳体。气动压印系统通过球头紧锁螺钉定位夹紧及弹性薄膜均匀布压，保证了压印过程中图案转移的横纵向精准度；紫外照明系统通过紫外LED灯照明及匀光器布光实现压印过程中光刻胶的均衡交联固化；气控系统用于控制压印夹紧操作；电控系统主要用于控制曝光时间、触控面板操作；壳体为不锈钢材质，对整个装置起保护集成作用。本发明可实现快速连续图案化结构生产，加工精度不受“衍射极限限制”且结构紧凑、操作方便，具有低成本、高精度和高通量的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 简易 紫外 纳米 压印 光刻 装置 | ||
【主权项】：
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