[发明专利]具有弯曲焦面或目标基准元件和场补偿器的共焦成像设备有效

专利信息
申请号: 202110149219.8 申请日: 2015-08-17
公开(公告)号: CN112987288B 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 塔勒·维科尔;阿迪·莱文;奥弗·萨菲尔;马妍·摩西 申请(专利权)人: 阿莱恩技术有限公司
主分类号: G02B27/00 分类号: G02B27/00;G01B11/24;G02B21/00;G02B23/24;G02B23/26;A61C9/00
代理公司: 北京奉思知识产权代理有限公司 11464 代理人: 邹轶鲛;石红艳
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种共焦成像设备,包括产生光束阵列的照明模块。聚焦光学器件将光束阵列共焦聚焦到非平坦焦面上,并且将光束阵列导向待成像的三维对象。平移机构调整至少一个透镜的位置,以使非平坦焦面沿着成像轴移位。检测器测量返回光束阵列的强度,该返回光束从三维对象反射,并且通过聚焦光学器件被导回。对于至少一个透镜的位置测量返回光束阵列的强度,用以确定三维对象的点在成像轴上的位置。调整一个以上的点的检测到的位置以补偿非平坦焦面。
搜索关键词: 具有 弯曲 目标 基准 元件 补偿 成像 设备
【主权项】:
暂无信息
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