[发明专利]一种利用相邻地层互相关约束的地层面模型修正方法有效

专利信息
申请号: 202110099275.5 申请日: 2021-01-25
公开(公告)号: CN112800518B 公开(公告)日: 2022-04-12
发明(设计)人: 刘修国;花卫华;梁栋 申请(专利权)人: 中国地质大学(武汉)
主分类号: G06F30/13 分类号: G06F30/13;G06F17/18;G06F17/15
代理公司: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231 代理人: 易贤卫
地址: 430000 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及一种利用相邻地层互相关约束的地层面模型修正方法,包括:统计待修正地层界面和辅助地层界面的高程边际特性函数;估计待修正地层界面对应的高程先验概率密度;根据辅助地层数、待修正地层界面和辅助地层界面的高程边际特性函数以及相邻地层界面的Copula函数,确定联合分布函数;根据高程边际特性函数和联合分布函数,确定待修正地层界面至少一个坐标点对应的似然函数;根据似然函数,对待修正地层界面的高程先验概率密度进行贝叶斯更新,确定高程后验概率密度;根据高程后验概率密度,对待修正地层界面的已有模型中的高程值进行更新。本发明通过Copula方法描述相邻地层的复杂相关结构,通过相关性进行模型修正,提高已有模型的建模精度。
搜索关键词: 一种 利用 相邻 地层 互相 约束 层面 模型 修正 方法
【主权项】:
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