[发明专利]一种电子元件晶元制备方法在审
| 申请号： | 202110079396.3 | 申请日： | 2021-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN112916458A | 公开（公告）日： | 2021-06-08 |
| 发明（设计）人： | 任玉成;陈丽丽 | 申请（专利权）人： | 任玉成 |
| 主分类号： | B08B1/02 | 分类号： | B08B1/02;B08B3/04;B08B13/00;F26B21/00;F26B25/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 210013 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种电子元件晶元制备方法，其使用了电子元件晶元制备装置，该装置包括支撑架、清洗池、清洗机构以及干燥取出机构。可以解决电子元件晶元制备过程中所存在的以下难题：a.电子元件晶元长时间放置时，其表面会沾染需要灰尘和各种细小的脏物，因此在实际使用时都要提前对晶元进行清洗，确保晶元表面无灰尘和脏物，传统的清洗方式大多通过清洗箱批量化清洗，这种方式存在表面清洗不干净，晶元之间存在碰撞现象，容易对晶元表面划伤；b.目前现有的清洁装置针对单个晶元清洗时，往往对晶元进行夹持固定，然后对表面进行刷洗，存在夹持部位无法清洗，同时夹持时会对晶元表面有所损伤。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电子元件 制备 方法 | ||
【主权项】：
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