[发明专利]抗蚀剂底层组合物和使用所述组合物形成图案的方法在审
| 申请号： | 202110056902.7 | 申请日： | 2021-01-15 |
| 公开（公告）号： | CN113138532A | 公开（公告）日： | 2021-07-20 |
| 发明（设计）人： | 崔有廷;权纯亨;朴贤;白载烈;金旼秀;裵信孝;宋大锡;安度源 | 申请（专利权）人： | 三星SDI株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨文娟;臧建明 |
| 地址： | 韩国京畿道龙仁*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种抗蚀剂底层组合物，包含：(A)包含由化学式1表示的结构单元、由化学式2表示的化合物或其组合的聚合物；(B)包含其中由化学式3或化学式4表示的部分中的至少一个和由化学式7表示的部分彼此键结的结构的聚合物；以及(C)溶剂；且还公开一种使用抗蚀剂底层组合物形成图案的方法，化学式1到化学式4和化学式7的定义如说明书中所描述。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂 底层 组合 使用 形成 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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