[发明专利]一种抛光用复合磨粒、研磨液及其制备方法在审
| 申请号： | 202110049270.1 | 申请日： | 2021-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN112778971A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 冼锐伟;杨青松;秦宏友;廖小龙;刘楷;李方伟;毕倩兰;徐信林;李禅;吴沙鸥;李毅 | 申请（专利权）人： | 深圳陶陶科技有限公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;C09G1/02 |
| 代理公司： | 深圳国新南方知识产权代理有限公司 44374 | 代理人： | 周雷 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市前海深港合作区前*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种抛光用复合磨粒，包括由内至外依次组成的内核体、杂化膜层、以及含有硬质磨粒的硬质磨粒层。所述内核体的包括氮化硅颗粒和/或氧化硅颗粒；所述杂化膜层为多孔结构的氧化铝杂化膜；所述硬质磨粒层中硬质磨粒的材料为金刚石、碳化硼、碳化硅、及立方氮化硼中的一种或多种。按质量分数计，所述抛光用复合磨粒包括内核体10‑40份，杂化膜层20‑80份，硬质磨粒层10‑40份。还提供一种包括上述复合磨粒的研磨液，以及该复合磨粒及研磨液的制备方法。抛光用复合磨粒、研磨液及其制备方法，使用该复合磨粒的研磨液研磨时，可以有效提高产品的研磨效率，且同时可以提高产品的表面质量，减小了产品划伤的概率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 抛光 复合 研磨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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