[发明专利]一种应用于离子束非金属刻蚀的中和器系统在审
| 申请号： | 202110026600.5 | 申请日： | 2021-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN112992644A | 公开（公告）日： | 2021-06-18 |
| 发明（设计）人： | 郑林;吴洪文;石慧;李媛;崔云涛;王得信 | 申请（专利权）人： | 中国船舶重工集团公司第七0七研究所 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 天津盛理知识产权代理有限公司 12209 | 代理人： | 王雨晴 |
| 地址： | 300131 天*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种应用于离子束非金属刻蚀中和器系统，包括离子源、中和器和工作台；在所述离子源的前方在所述离子源用于产生匀速直线运动的带正电的氩离子，所述中和器用于产生带负电荷的电子，该带负电荷的电子与离子源产生的带正电的氩离子产生中和效应后，使匀速直线运动的不带电的氩离子轰击工件台上的待刻蚀的工件；所述工作台用于固定待刻蚀的工件。本发明能够通过减小频率裂解，使谐振陀螺在精度、斜漂、分辨率等各项性能指标中都更加趋于完善。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 离子束 非金属 刻蚀 中和 系统 | ||
【主权项】：
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