[发明专利]切割道标记及光刻掩膜版版图的设计方法、设计装置有效

专利信息
申请号: 202110023164.6 申请日: 2021-01-08
公开(公告)号: CN112731758B 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 章艳 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G03F1/42 分类号: G03F1/42;G03F1/68
代理公司: 上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙) 31294 代理人: 孙佳胤;高德志
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种切割道标记及光刻掩膜版版图的设计方法、设计装置,其中所述切割道标记的设计方法,提供第一切割道标记,所述第一切割道标记包括透光的第一部分和不透光的第二部分;对所述第一切割道标记进行反相处理,形成第二切割道标记,所述反相处理包括将所述第一切割道标记中至少部分透光的第一部分转化为不透光的第三部分,将所述第一切割道标记中至少部分不透光的第二部分转化为透光的第四部分。本发明在设计新的切割道标记时,对已有的第一切割道标记进行反相处理既可获得,无需进行繁琐的构图设计和尺寸设计等,极大的简化的设计流程,提高了设计的效率,并且形成的第二切割道标记可以直接用于掩膜板的设计中。
搜索关键词: 切割 标记 光刻 掩膜版 版图 设计 方法 装置
【主权项】:
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