[发明专利]一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法有效
| 申请号： | 202110012259.8 | 申请日： | 2020-05-26 |
| 公开（公告）号： | CN112745145B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 刘一军;杨元东;杨倩;张克林;郑贵友;王贤超 | 申请（专利权）人： | 蒙娜丽莎集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C8/00 | 分类号： | C03C8/00 |
| 代理公司： | 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 | 代理人： | 曹芳玲;郑优丽 |
| 地址： | 528211 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种全抛釉、以及具有全抛釉的抛釉砖及其制备方法。所述全抛釉施加于砖体上在烧成温度为1200～1220℃、烧成周期为60～80min的条件下烧成后的釉面层中均匀存在直径在20μm以下的气泡，所述全抛釉的原料配方包括：按质量计，茶晶长石22～30%，氧化锌6～9%，碳酸钡12～14%，烧滑石7～9%，高岭土8～10%，325目刚玉6～12%，玻璃熔块23～27%，硅酸锆1～3%。该全抛釉烧成后透明度高、硬度达到6级，耐磨等级达到6000转（4级）。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 全抛釉 以及 具有 抛釉砖 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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