[实用新型]腔室开盖机构有效
申请号: | 202022220921.2 | 申请日: | 2020-09-30 |
公开(公告)号: | CN212625527U | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 冯琳 | 申请(专利权)人: | 上海广川科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 张印铎;陈伟 |
地址: | 200444 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型公开一种在半导体真空传输系统中方便开盖的腔室开盖机构,包括:腔室主体;所述腔室主体具有容纳腔室以及通入所述容纳腔室的开口;可盖合在所述开口上的盖体;所述盖体可转动地连接所述腔室主体;具有第一连接端和第二连接端的气体弹簧;所述第一连接端可转动地连接所述腔室主体,所述第二连接端可转动地连接所述盖体;所述气体弹簧在所述盖体位于盖合位置时处于压缩状态并向上顶抵所述盖体。 | ||
搜索关键词: | 腔室开盖 机构 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造