[实用新型]一种测试结构有效
申请号: | 202021102544.6 | 申请日: | 2020-06-15 |
公开(公告)号: | CN211980612U | 公开(公告)日: | 2020-11-20 |
发明(设计)人: | 孟丽华;王兴;李洋 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(天津)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | H01L23/544 | 分类号: | H01L23/544;H01L21/66;G01R27/02 |
代理公司: | 北京市一法律师事务所 11654 | 代理人: | 刘荣娟 |
地址: | 300385*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本申请提供一种测试结构,包括:至少两层层叠分布的离子注入层,所述离子注入层至少包括顶层离子注入层和待测离子注入层,所述待测离子注入层与相邻的离子注入层电绝缘;辅助测试层,与所述待测离子注入层和所述顶层离子注入层邻接,所述辅助测试层与所述待测离子注入层电连通且与邻接的其他离子注入层电绝缘;第一导电引线,所述第一导电引线与所述辅助测试层电连接。本申请的测试结构可以测试多层离子注入层的电阻。 | ||
搜索关键词: | 一种 测试 结构 | ||
【主权项】:
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